ඝර්ෂණ සාධකයට බලපාන විවිධ සාධක

ඝර්ෂණ සාධකයට බලපාන විවිධ සාධක
1. මතුපිට ගුණාංග
පරිසර දූෂණය, රසායනික තාප පිරියම් කිරීම, විද්‍යුත් ආලේපන සහ ලිහිසි තෙල් ආදිය හේතුවෙන් ඉතා තුනී මතුපිට පටලයක් (ඔක්සයිඩ් පටල, සල්ෆයිඩ් පටල, ෆොස්ෆයිඩ් පටල, ක්ලෝරයිඩ් පටල, ඉන්ඩියම් පටල, කැඩ්මියම් පටල, ඇලුමිනියම් පටල, ආදිය) සෑදී ඇත. ලෝහ මතුපිට.), මතුපිට ස්ථරයට උපස්ථරයෙන් වෙනස් ගුණ ඇත.පෘෂ්ඨීය පටලය යම් ඝණකමක් තුළ තිබේ නම්, මතුපිට පටලය වෙනුවට සැබෑ ස්පර්ශක ප්රදේශය තවමත් මූලික ද්රව්යය මත ඉසිනු ලබන අතර, මතුපිට චිත්රපටයේ කැපුම් ශක්තිය මූලික ද්රව්යයට වඩා අඩු කළ හැක;අනෙක් අතට, මතුපිට චිත්රපටයේ පැවැත්ම හේතුවෙන් එය සිදුවීම පහසු නොවේ.ඇලවීම, එබැවින් ඝර්ෂණ බලය සහ ඝර්ෂණ සාධකය ඒ අනුව අඩු කළ හැකිය.මතුපිට පටල ඝනකම ද ඝර්ෂණ සාධකය කෙරෙහි විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි.මතුපිට චිත්රපටය ඉතා සිහින් නම්, චිත්රපටය පහසුවෙන් තලා ඇති අතර උපස්ථර ද්රව්යයේ සෘජු ස්පර්ශය සිදු වේ;මතුපිට පටලය ඉතා ඝන නම්, එක් අතකින්, මෘදු පටලය හේතුවෙන් සත්‍ය සම්බන්ධතා ප්‍රදේශය වැඩි වන අතර, අනෙක් අතට, ද්විත්ව පෘෂ්ඨ දෙකෙහි ඇති ක්ෂුද්‍ර මුදුන් වන්නේ මතුපිට පටලයට ඇති විලි ආචරණය ද වැඩි වේ. කැපී පෙනෙන.මතුපිට චිත්රපටය සෙවීමට වටින ප්රශස්ථ ඝනකමක් ඇති බව දැකිය හැකිය.2. ද්රව්යමය ගුණ ලෝහ ඝර්ෂණ යුගලවල ඝර්ෂණ සංගුණකය යුගල කරන ලද ද්රව්යවල ගුණ සමඟ වෙනස් වේ.සාමාන්‍යයෙන් කථා කරන විට, වැඩි අන්‍යෝන්‍ය ද්‍රාව්‍යතාවයක් ඇති එකම ලෝහ හෝ ලෝහ ඝර්ෂණ යුගලය ඇලීමට ලක්වන අතර එහි ඝර්ෂණ සාධකය විශාල වේ;ඊට ප්රතිවිරුද්ධව, ඝර්ෂණ සාධකය කුඩා වේ.විවිධ ව්යුහයන්ගේ ද්රව්ය විවිධ ඝර්ෂණ ගුණ ඇත.නිදසුනක් ලෙස, ග්රැෆයිට් ස්ථායී ස්ථර ව්යුහයක් සහ ස්ථර අතර කුඩා බන්ධන බලයක් ඇත, එබැවින් එය ලිස්සා යාම පහසුය, එබැවින් ඝර්ෂණ සාධකය කුඩා වේ;උදාහරණයක් ලෙස, දියමන්ති යුගලයේ ඝර්ෂණ යුගලය එහි අධික දෘඪතාව සහ කුඩා සත්‍ය සම්බන්ධතා ප්‍රදේශය හේතුවෙන් ඇලවීම පහසු නොවන අතර එහි ඝර්ෂණ සාධකය ද ඉහළ ය.කුඩා.
3. ඝර්ෂණ සාධකය මත අවට මාධ්‍යයේ උෂ්ණත්වයේ බලපෑම ප්‍රධාන වශයෙන් සිදු වන්නේ මතුපිට ද්‍රව්‍යයේ ගුණ වෙනස් වීමෙනි.Bowden et al ගේ අත්හදා බැලීම්.බොහෝ ලෝහවල ඝර්ෂණ සාධක (මොලිබ්ඩිනම්, ටංස්ටන්, ටංස්ටන්, ආදිය) සහ ඒවායේ සංයෝග, අවම අගය අවට මධ්‍යම උෂ්ණත්වය 700~800℃ වන විට ඇති බව පෙන්වයි.මෙම සංසිද්ධිය සිදු වන්නේ ආරම්භක උෂ්ණත්වය ඉහළ යාමේ කැපුම් ශක්තිය අඩු වන අතර තවදුරටත් උෂ්ණත්වය ඉහළ යාම අස්වැන්න ලක්ෂ්‍යය තියුනු ලෙස පහත වැටීමට හේතු වන අතර එමඟින් සැබෑ සම්බන්ධතා ප්‍රදේශය විශාල ලෙස වැඩි වේ.කෙසේ වෙතත්, පොලිමර් ඝර්ෂණ යුගල හෝ පීඩන සැකසුම් වලදී, උෂ්ණත්වය වෙනස් වීමත් සමඟ ඝර්ෂණ සංගුණකය උපරිම අගයක් ගනී.
ඝර්ෂණ සාධකය මත උෂ්ණත්වයේ බලපෑම වෙනස් කළ හැකි බවත්, නිශ්චිත සේවා තත්ත්වයන්, ද්‍රව්‍යමය ගුණාංග, ඔක්සයිඩ් පටල වෙනස්වීම් සහ වෙනත් සාධකවල බලපෑම හේතුවෙන් උෂ්ණත්වය සහ ඝර්ෂණ සාධකය අතර සම්බන්ධය ඉතා සංකීර්ණ වන බව ඉහතින් දැක ගත හැකිය. ;
4. සාපේක්ෂ චලන වේගය
සාමාන්‍යයෙන්, ස්ලයිඩින් වේගය මතුපිට උණුසුම හා උෂ්ණත්වය ඉහළ යාමට හේතු වන අතර එමඟින් මතුපිට ගුණාංග වෙනස් වේ, එබැවින් ඝර්ෂණ සාධකය ඒ අනුව වෙනස් වේ.ඝර්ෂණ යුගලයේ යුගල පෘෂ්ඨවල සාපේක්ෂ ස්ලයිඩින් වේගය 50m / s ඉක්මවන විට, ස්පර්ශක පෘෂ්ඨයන් මත ඝර්ෂණ තාපය විශාල ප්රමාණයක් ජනනය වේ.ස්පර්ශක ලක්ෂ්‍යයේ කෙටි අඛණ්ඩ සම්බන්ධතා කාලය හේතුවෙන්, ක්ෂණිකව ජනනය වන ඝර්ෂණ තාප විශාල ප්‍රමාණයක් උපස්ථරයේ අභ්‍යන්තරයට විසරණය කළ නොහැක, එබැවින් ඝර්ෂණ තාපය මතුපිට ස්ථරයේ සංකේන්ද්‍රණය වී මතුපිට උෂ්ණත්වය ඉහළ ගොස් උණු කළ තට්ටුවක් දිස් වේ. .උණු කළ ලෝහය ලිහිසි කිරීමේ කාර්යභාරයක් ඉටු කරන අතර ඝර්ෂණය ඇති කරයි.වේගය වැඩි වන විට සාධකය අඩු වේ.උදාහරණයක් ලෙස, තඹ ස්ලයිඩින් වේගය 135m/s වන විට, එහි ඝර්ෂණ සාධකය 0.055 වේ;එය 350m/s වන විට එය 0.035 දක්වා අඩු වේ.කෙසේ වෙතත්, සමහර ද්‍රව්‍යවල (මිනිරන් වැනි) ඝර්ෂණ සාධකය ස්ලයිඩින් වේගයට බලපාන්නේ නැත, මන්ද එවැනි ද්‍රව්‍යවල යාන්ත්‍රික ගුණාංග පුළුල් උෂ්ණත්ව පරාසයක් තුළ පවත්වා ගත හැකි බැවිනි.මායිම් ඝර්ෂණය සඳහා, වේගය 0.0035m/s ට වඩා අඩු අඩු වේග පරාසයක, එනම්, ස්ථිතික ඝර්ෂණයේ සිට ගතික ඝර්ෂණයට සංක්‍රමණය වීම, වේගය වැඩි වන විට, adsorption film එකේ ඝර්ෂණ සංගුණකය ක්‍රමයෙන් අඩු වී a වෙත නැඹුරු වේ. නියත අගය, සහ ප්‍රතික්‍රියා පටලයේ ඝර්ෂණ සංගුණකය එය ක්‍රමයෙන් වැඩි වන අතර නියත අගයකට නැඹුරු වේ.
5. පැටවීම
සාමාන්යයෙන්, ලෝහ ඝර්ෂණ යුගලයේ ඝර්ෂණ සංගුණකය බර වැඩිවීමත් සමග අඩු වන අතර, පසුව ස්ථාවර වීමට නැඹුරු වේ.මෙම සංසිද්ධිය adhesion theory මගින් පැහැදිලි කළ හැක.භාරය ඉතා කුඩා වන විට, ද්විත්ව පෘෂ්ඨයන් දෙක ප්රත්යාස්ථ ස්පර්ශකයක් වන අතර, සැබෑ ස්පර්ශක ප්රදේශය බරෙහි 2/3 බලයට සමානුපාතික වේ.ඇලවුම් සිද්ධාන්තයට අනුව, ඝර්ෂණ බලය සැබෑ ස්පර්ශක ප්රදේශයට සමානුපාතික වේ, එබැවින් ඝර්ෂණ සාධකය භාරයේ 1 වේ./3 බලය ප්රතිලෝමව සමානුපාතික වේ;භාරය විශාල වන විට, ද්විත්ව පෘෂ්ඨයන් දෙක ඉලාස්ටික්-ප්ලාස්ටික් ස්පර්ශක තත්වයක පවතින අතර, සත්‍ය ස්පර්ශක ප්‍රදේශය බරෙහි 2/3 සිට 1 දක්වා බලයට සමානුපාතික වේ, එබැවින් බර වැඩිවීමත් සමඟ ඝර්ෂණ සාධකය සෙමින් අඩු වේ .ස්ථාවර වීමට නැඹුරු වේ;ද්විත්ව පෘෂ්ඨයන් දෙක ප්ලාස්ටික් ස්පර්ශ වන තරමට බර පැටවීම විශාල වන විට, ඝර්ෂණ සාධකය මූලික වශයෙන් භාරයෙන් ස්වාධීන වේ.ස්ථිතික ඝර්ෂණ සාධකයේ විශාලත්වය බර යටතේ ද්විත්ව පෘෂ්ඨයන් දෙක අතර ස්ථිතික සම්බන්ධතා කාලසීමාවට ද සම්බන්ධ වේ.සාමාන්යයෙන්, ස්ථිතික සම්බන්ධතා කාලය දිගු වන අතර, ස්ථිතික ඝර්ෂණ සාධකය වැඩි වේ.මෙය ස්පර්ශක ස්ථානයේ ප්ලාස්ටික් විරූපණයට හේතු වන බරෙහි ක්රියාකාරිත්වය නිසාය.ස්ථිතික සම්බන්ධතා කාලය දිගු කිරීමත් සමග, සැබෑ සම්බන්ධතා ප්රදේශය වැඩි වනු ඇත, සහ ක්ෂුද්ර උච්ච එකිනෙකා තුළ තැන්පත් කර ඇත.ගැඹුරු නිසා ඇතිවේ.
6. මතුපිට රළුබව
ප්ලාස්ටික් ස්පර්ශයකදී, සැබෑ ස්පර්ශක ප්රදේශය මත මතුපිට රළුබවෙහි බලපෑම කුඩා බැවින්, ඝර්ෂණ සාධකය මතුපිට රළුබව කිසිසේත්ම බලපාන්නේ නැතැයි සැලකිය හැකිය.ඉලාස්ටික් හෝ ඉලාස්ටොප්ලාස්ටික් ස්පර්ශයක් සහිත වියළි ඝර්ෂණ යුගලයක් සඳහා, මතුපිට රළු අගය කුඩා වන විට, යාන්ත්රික බලපෑම කුඩා වන අතර, අණුක බලය විශාල වේ;සහ අනෙක් අතට.මතුපිට රළුබව වෙනස් වීමත් සමඟ ඝර්ෂණ සාධකය අවම අගයක් ගන්නා බව දැකගත හැකිය
ඝර්ෂණ සාධකය මත ඉහත සාධකවල බලපෑම හුදකලා නොවේ, නමුත් එකිනෙකට සම්බන්ධ වේ.